Fraunhofer Institute for Silicon Technology

L'Institut Fraunhofer pour la technologie du silicium est une installation de recherche à Itzehoe qui se concentre sur le développement des semi-conducteurs et des microsystèmes. Le bâtiment contient des laboratoires modernes avec des conditions spéciales où les puces et les composants pour diverses industries sont produits.

L'institut a été fondé en 1999 comme partie de la Société Fraunhofer, qui soutient la recherche en Allemagne. Depuis, il est devenu un centre important pour développer les technologies du silicium en Allemagne du Nord.

L'institut collabore étroitement avec des universités et des entreprises pour partager des connaissances sur les technologies modernes. Les visiteurs peuvent voir comment la recherche et l'industrie sont connectées ici par des projets communs.

L'institut est situé à Itzehoe et est accessible par les transports publics, qui offrent de bonnes connexions à la ville. Les visiteurs doivent s'informer à l'avance car tous les domaines ne sont pas ouverts au public.

L'institut exploite ses propres installations de production, ce qui lui permet de fabriquer des microchips à l'échelle industrielle. C'est inhabituel car les institutions de recherche développent généralement des produits tandis que la fabrication se fait dans des usines séparées.

Emplacement : Itzehoe

Création : 1999

Fait partie de : Fraunhofer Society

Site web : http://isit.fraunhofer.de

Coordonnées GPS : 53.95720,9.48278

Dernière mise à jour : 13 décembre 2025 à 13:22