Fraunhofer Institute for Silicon Technology

L'Institut Fraunhofer pour la Technologie du Silicium exploite des installations modernes de salle blanche dédiées au développement et à la fabrication de microélectronique et de microsystèmes.

Créé en 1999, l'institut est devenu partie intégrante de la Société Fraunhofer pour faire progresser les technologies à base de silicium et les applications industrielles dans le nord de l'Allemagne.

L'institut entretient des liens étroits avec les institutions académiques et les partenaires industriels, facilitant l'échange de connaissances par des programmes spécialisés et des collaborations.

Les scientifiques développent des composants électroniques de puissance et des microsystèmes pour des applications en médecine, ingénierie environnementale et technologie automobile.

L'institut dispose de capacités de fabrication permettant la production directe de micropuces à échelle industrielle, reliant la recherche à l'application commerciale.

Emplacement : Itzehoe

Création : 1999

Fait partie de : Fraunhofer Society

Site web : http://isit.fraunhofer.de

Coordonnées GPS : 53.95720,9.48278

Dernière mise à jour : 3 mars 2025 à 16:22